XTM-08旋涂仪 玻璃片光刻胶均匀涂布 转速精度±1rpm

产品概述

在平板显示、微流控芯片、生物传感及光学镀膜等领域，玻璃基片的光刻胶涂布质量直接决定了器件的图形精度与功能表现。玻璃表面光滑、化学惰性强，对涂胶工艺的均匀性与附着力提出了更高要求。

慧诺 XTM-08 智能程控匀胶机，专为玻璃基片及各类平面基材的高精度光刻胶涂布而开发。设备采用高精度数字伺服电机与闭环控制技术，配合耐腐蚀不锈钢腔体与智能程控系统，可在玻璃片、硅片、陶瓷、金属等基材上稳定制备纳米至微米级厚度的均匀光刻胶薄膜。

核心优势

1. 精密转速控制，保障光刻胶涂布均匀性

• 转速精度 ±1 rpm：采用高分辨率伺服电机与闭环控制，确保设定转速与实际转速高度一致，从驱动源头保障膜厚均匀性。

• 加速度 100~10,000 rpm/s 可调：精细调节升/降速曲线，匹配不同光刻胶的流变特性（正胶/负胶/厚胶等），有效消除玻璃表面的条纹、漩涡与边缘堆积缺陷。

• 良好的片内/片间一致性：为后续曝光、显影等光刻工艺提供高质量的涂胶基底。

2. 针对玻璃基片优化的吸附系统

• 玻璃基片真空吸附：采用多点均匀真空吸附方式，确保玻璃片在高速旋转中稳固不偏移。

• 有效防止薄片变形：玻璃基片较薄时易受力变形，可选多点吸附方式，降低局部应力，保护基片完整性。

• 标配多尺寸片托：覆盖从2英寸碎片到8英寸大面积玻璃片的涂布需求，兼容不同规格样品。

3. 智能程控，固化标准涂胶工艺

• 20组程序 × 5段/组：每组可独立设置转速、加速度与时间，完美适配多层光刻胶涂布、梯度旋涂等复杂工艺。

• 一键调用配方：常用涂胶工艺参数固化存储，消除人为操作差异，确保批次间可重复性。

• 5英寸以上触摸屏：实时图形化显示转速-时间曲线，运行状态全程可视化。

4. 不锈钢腔体，耐化学腐蚀

• 腔体采用高品质不锈钢材质，可耐受光刻胶、显影液、丙酮、异丙醇、去离子水等常用工艺化学品。

• 平滑内壁与圆角设计，便于胶液残留的快速清洁，有效减少颗粒物污染与交叉污染，满足洁净室使用规范。

5. 多重安全保护

• 开盖保护：运行中打开腔盖自动停机，保障操作人员安全。

• 真空压力报警：吸附压力不足时主动提示并报警，防止基片在高速旋转中飞片。

• 双重机制确保设备与玻璃基片的安全。

6. 灵活扩展，满足进阶需求

• 可选高温腔体模块（室温 ~ 200℃）：实现“旋涂 + 前烘”一体化，缩短工艺流转时间，尤其适合光刻胶涂布后的快速预烘。

• 可选自动点胶系统：实现定量精确滴胶，减少人为误差，保障胶量一致性。

• 可选多工位模块（如4工位）：提升中试生产效率。

应用场景

技术参数